- Retrait gratuit dans votre magasin Club
- 7.000.000 titres dans notre catalogue
- Payer en toute sécurité
- Toujours un magasin près de chez vous
- Retrait gratuit dans votre magasin Club
- 7.000.000 titres dans notre catalogue
- Payer en toute sécurité
- Toujours un magasin près de chez vous
Atomic Layer Deposition 2e
Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
Tommi Kääriäinen, David Cameron, Marja-Leena Kääriäinen, Arthur Sherman
Livre relié | Anglais
307,95 €
+ 615 points
Description
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.
Spécifications
Parties prenantes
- Auteur(s) :
- Editeur:
Contenu
- Nombre de pages :
- 272
- Langue:
- Anglais
Caractéristiques
- EAN:
- 9781118062777
- Date de parution :
- 28-05-13
- Format:
- Livre relié
- Format numérique:
- Genaaid
- Dimensions :
- 155 mm x 236 mm
- Poids :
- 566 g
