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  7. Design for Manufacturability with Advanced Lithography

Design for Manufacturability with Advanced Lithography

Bei Yu, David Z Pan
Livre broché | Anglais
52,95 €
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Description

This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL). The authors describe in detail a set of algorithms/methodologies to resolve issues in modern design for manufacturability problems with advanced lithography. Unlike books that discuss DFM from the product level or physical manufacturing level, this book describes DFM solutions from a circuit design level, such that most of the critical problems can be formulated and solved through combinatorial algorithms.

Spécifications

Parties prenantes

Auteur(s) :
Editeur:

Contenu

Nombre de pages :
164
Langue:
Anglais

Caractéristiques

EAN:
9783319373935
Date de parution :
23-08-16
Format:
Livre broché
Format numérique:
Trade paperback (VS)
Dimensions :
156 mm x 234 mm
Poids :
258 g

Les avis